近日，光刻機(jī)巨頭ASML近日發(fā)布了2022年第一季度財(cái)報(bào)。根據(jù)財(cái)報(bào)顯示，該財(cái)季ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額35億歐元，毛利率為49%，凈利潤(rùn)6.95億歐元，新增訂單金額70億歐元。

盡管一季度的營(yíng)收同比下滑了超過19%，但仍優(yōu)于分析師此前預(yù)計(jì)的34.4億歐元的平均值。凈利潤(rùn)表現(xiàn)也優(yōu)于分析師預(yù)計(jì)的6.21億歐元平均值。ASML表示，一季度營(yíng)收下滑的原因，在于部分光刻機(jī)訂單尚未獲得工廠準(zhǔn)入測(cè)試即向客戶出貨，使得客戶可以更快獲得光刻機(jī)，但這批訂單收入需要在未來多個(gè)季度中才能得以確認(rèn)。值得注意的是，在全球芯片荒的持續(xù)之下，頭部晶圓廠紛紛擴(kuò)產(chǎn)，對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備的需求大漲，但是“缺芯”也導(dǎo)致了半導(dǎo)體設(shè)備廠商的上游供應(yīng)鏈關(guān)鍵零部件的緊缺，這些都使得半導(dǎo)體設(shè)備的供應(yīng)極為緊張。根據(jù)研究機(jī)構(gòu)的數(shù)據(jù)顯示，目前半導(dǎo)體設(shè)備的交期已經(jīng)拉長(zhǎng)至18個(gè)月。ASML總裁兼CEO溫寧克(Peter Wennink)稱，市場(chǎng)對(duì)其生產(chǎn)的光刻機(jī)系統(tǒng)需求超過了當(dāng)前產(chǎn)能。目前ASML正提高生產(chǎn)率并加快發(fā)貨，以應(yīng)對(duì)需求。但是ASML的供應(yīng)商同樣也遇到了缺芯問題。

ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型，比如英特爾(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、臺(tái)積電(TSMC)、中芯國(guó)際(SMIC)等。ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列現(xiàn)已停產(chǎn);AT系列屬于老型號(hào)，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場(chǎng)上的主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機(jī)型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是主推的高端機(jī)型，全部為沉浸式。已經(jīng)商用的最先進(jìn)機(jī)型是Twinscan NXT 1950i，屬于沉浸式光刻機(jī)，用來生產(chǎn)關(guān)鍵尺度低于38納米的集成電路。ASML正在加緊研制基于極紫外(EUV)光源的新型光刻機(jī)，型號(hào)定為NXE系列。如果量產(chǎn)成功，將成為劃時(shí)代的產(chǎn)品，有望將關(guān)鍵尺寸縮小至10nm以下，并且可以顯著提高集成電路質(zhì)量。

ASML剛剛發(fā)布的Q1季度財(cái)報(bào)顯示，其第一季度共賣出59臺(tái)新光刻機(jī)，3臺(tái)二手光刻機(jī)，凈銷售額為35億歐元，凈收入為6.95億歐元，毛利率為49.0%，整體較2021年Q4季度有所下降。其凈銷售額同/環(huán)比下降19%、29.1%，凈利潤(rùn)同/環(huán)比下降47.8%、60.8%。

ASML首席執(zhí)行官表示，Q1凈銷售額處于該公司預(yù)估區(qū)間的高位，毛利率符合預(yù)期。而根據(jù)路透社此前報(bào)道，分析師預(yù)測(cè)ASMLQ1營(yíng)收分別為34.4億歐元，6.21億歐元，業(yè)績(jī)基本符合預(yù)期。此外，財(cái)報(bào)顯示，中國(guó)大陸占據(jù)了本季度設(shè)備銷售額的34%，排名第一，而這一數(shù)字在2021年Q4季度則為22%，增幅明顯。

現(xiàn)在說到光刻機(jī)，可能大部分朋友想到的都是EUV光刻機(jī)，畢竟EUV光刻機(jī)是近年來的熱門話題，而且很多朋友之所以開始了解光刻機(jī)，也是因?yàn)橄攘私獾紼UV光刻機(jī)。誠(chéng)然，EUV光刻機(jī)確實(shí)有著它的特殊性，因?yàn)橹挥泻商m制造商ASML可以制造，而比EUV光刻機(jī)稍低一個(gè)等級(jí)的DUV光刻機(jī)，供應(yīng)商還是比較多的，除了ASML，還有日本的尼康、佳能，以及我國(guó)的上海微電子。因此從這方面來說，DUV光刻機(jī)的供應(yīng)能力應(yīng)該遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于EUV光刻機(jī)，但是現(xiàn)在來看，DUV光刻機(jī)也”變味“了，其供應(yīng)遠(yuǎn)沒有我們想象的那么樂觀。

所以我們總結(jié)來看，我們的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)其實(shí)已經(jīng)具備了很強(qiáng)的實(shí)力，只不過因?yàn)檫M(jìn)入市場(chǎng)較晚，所以出貨量上還有差距，但是毫無疑問，市場(chǎng)的風(fēng)云變幻，為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)提供了一次有利的契機(jī)，對(duì)此大家怎么看呢?歡迎大家討論。