眾所周知，在芯片制造過程中，最重要的半導(dǎo)體設(shè)備就是光刻機(jī)。為什么說他最重要，一方面是因?yàn)樗妓兄圃煸O(shè)備成本的22%左右，同時(shí)也占工時(shí)的20%左右。

另外一方面是全球僅有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，而EUV光刻機(jī)是進(jìn)入到10nm以下工工藝的必備品，所以找ASML買到EUV光刻機(jī)，是每家芯片制造廠商必須要干的事。

目前ASML已經(jīng)推出了三代EUV光刻機(jī)，分別是TWINSCAN NXE：3400B 、NXE：3400C、NXE：3600D。這三代EUV光刻機(jī)的數(shù)值孔徑為0.33，理論上能夠生產(chǎn)的芯片精度，最多在2nm左右。

所以一旦進(jìn)入到2nm以下，也就是埃米(1埃米=0.1納米)時(shí)，那么ASML還得研發(fā)更高精度的光刻機(jī)才行。而更高精度的光刻機(jī)，稱之為High NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)。

事實(shí)上，ASML也早就有準(zhǔn)備了，ASML下一代高精度的EUV光刻機(jī)型號(hào)叫做EXE：5000，數(shù)值孔徑為0.55，可用于2nm以下的芯片制造，比如1.4nm(14埃米)、1nm(10埃米)等工藝。

在2020年底的時(shí)候，就有媒體報(bào)道，ASML其實(shí)已經(jīng)基本研發(fā)完成，正在開始試產(chǎn)，預(yù)計(jì)到2022年就會(huì)商用。而近日imec正式表示，ASML的EXE：5000光刻機(jī)，會(huì)在2022年-2023年提供。

但晶圓廠商基于這臺(tái)光刻機(jī)，生產(chǎn)nm以上的芯片，至少要到2025年之后，其認(rèn)為的工藝路徑進(jìn)程是2025對(duì)應(yīng)A14(14?=1.4納米)，2027年為A10(10?=1nm)、2029年為A7(7?=0.7納米)。

此外，行業(yè)分析師Alan Priestley則表示，ASML的0.55NA光刻機(jī)(NXE：5000)的價(jià)格會(huì)高達(dá)3億美元(約合20億元)，是當(dāng)前0.33NA光刻機(jī)的兩倍。

想必接下來，各大晶圓代工廠們，特別是臺(tái)積電、三星、intel又要搶光刻機(jī)忙了，畢竟全球僅ASML能夠生產(chǎn)，誰能提前買到0.55NA光刻機(jī)，也就相當(dāng)于拿到了進(jìn)入埃米級(jí)工藝的門票，就能取得先機(jī)。