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ProPlus首創(chuàng)整合式DFY方案
半導體制程技術(shù)持續(xù)精進，隨之而來的制程偏移(ProcessVariation)及小尺寸效應，恐導致設計結(jié)果的不確定性，因此如何建立完善的統(tǒng)計模型(StatisticalModel)，同時在ICDesign的階段能夠正確地應用統(tǒng)計模型，并且可以
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ProPlus首創(chuàng)整合式DFY方案
半導體制程技術(shù)持續(xù)精進，隨之而來的制程偏移(ProcessVariation)及小尺寸效應，恐導致設計結(jié)果的不確定性，因此如何建立完善的統(tǒng)計模型(StatisticalModel)，同時在ICDesign的階段能夠正確地應用統(tǒng)計模型，并且可以進
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ProPlus首創(chuàng)整合式NanoYield 填補EDA界過往缺憾
半導體制程技術(shù)持續(xù)精進，隨之而來的制程偏移(ProcessVariation)及小尺寸效應，恐導致設計結(jié)果的不確定性，因此如何建立完善的統(tǒng)計模型(StatisticalModel)，同時在ICDesign的階段能夠正確地應用統(tǒng)計模型，并且可以進
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ProPlus首創(chuàng)整合式DFY方案 形塑高良率分析之新標竿
半導體制程技術(shù)持續(xù)精進，隨之而來的制程偏移(ProcessVariation)及小尺寸效應，恐導致設計結(jié)果的不確定性，因此如何建立完善的統(tǒng)計模型(StatisticalModel)，同時在ICDesign的階段能夠正確地應用統(tǒng)計模型，并且可以進
