隨著半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)的不斷進(jìn)步,ASML公司即將在2030年推出Hyper-NA EUV設(shè)備,這一設(shè)備將能夠支持1納米以下的先進(jìn)工藝技術(shù)。這一消息由韓國(guó)媒體Chosun Biz報(bào)道,標(biāo)志著ASML在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域的又一次重大突破。
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