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High-NA EUV

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英特爾搶用 High-NA EUV 光刻機(jī)，專家：成本高虧損恐?jǐn)U大

英特爾搶先導(dǎo)入ASML的高數(shù)值孔徑極紫外光（High-NA EUV）設(shè)備，為外界視為是英特爾重返技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)地位的關(guān)鍵作為。產(chǎn)業(yè)專家表示，High-NA EUV成本居高不下，英特爾搶用High-NA EUV恐面臨虧損擴(kuò)大窘境。

信息速遞
2024-05-23

英特爾 ASML High-NA EUV 光刻機(jī)
一臺(tái)3億歐元！ASML CEO：High-NA EUV將于2024年出貨

綜合韓聯(lián)社、koreatimes報(bào)道顯示，全球光刻機(jī)龍頭大廠ASML首席執(zhí)行官溫寧克(Peter Wennink)于今日在韓國(guó)首爾召開的一場(chǎng)新聞發(fā)布會(huì)上表示，ASML新一代的High-NA EUV光刻機(jī)將于2024年開始發(fā)貨，每臺(tái)設(shè)備的價(jià)格將在3億至3.5億歐元之間。

嵌入式硬件
2022-11-28

EUV光刻機(jī) ASML High-NA EUV