光刻機是芯片生產(chǎn)制造的必要設(shè)備,目前,最先進的光刻機技術(shù)掌握在ASML手中。數(shù)據(jù)顯示,ASML研發(fā)生產(chǎn)的DUV光刻機,能夠生產(chǎn)7nm以上的芯片,而EUV光刻機則能夠生產(chǎn)制造7nm以下的芯片,兩款光刻機幾乎占領(lǐng)了中高端市場。
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