8月19日上午,南湖高新區(qū)微電子產(chǎn)業(yè)又添一員“猛將”——由青島恩芯創(chuàng)始人張汝京主導(dǎo)的光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈項目簽約儀式在浙江嘉興科技城(南湖高新區(qū))智立方舉行。簽約儀式上,項目負(fù)責(zé)人張汝京博士為大家介紹了關(guān)于光罩的“知識點”。據(jù)介紹,光罩也稱為光掩模版,在IC制造過程中,其作用是將設(shè)計好的電路進(jìn)行顯影,將圖形投影在晶圓上,利用光刻技術(shù)進(jìn)行蝕刻,是半導(dǎo)體光刻工藝中所需的高精密工具。
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