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三星公布最新技術(shù)路線圖：7nm 規(guī)模量產(chǎn)、導(dǎo)入8nm LPU、引入GAAFET
日前，三星在日本舉辦了三星鑄造工廠論壇（SFF）2018年會，更新了技術(shù)路線圖。簡單來說，主要有三點(diǎn)，一是基于EUV技術(shù)的7nm制程工藝會在接下來幾個季度內(nèi)大規(guī)模量產(chǎn)（初期EUV僅用于選擇層），二是導(dǎo)
日前，三星在日本舉辦了三星鑄造工廠論壇（SFF）2018年會，更新了技術(shù)路線圖。簡單來說，主要有三點(diǎn)，一是基于EUV技術(shù)的7nm制程工藝會在接下來幾個季度內(nèi)大規(guī)模量產(chǎn)（初期EUV僅用于選擇層），二是導(dǎo)
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