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三星計(jì)劃2021年量產(chǎn)采用3nm制程節(jié)點(diǎn)的GAA電晶體
三星重申計(jì)畫在今年下半年開始使用EUV微影技術(shù)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的計(jì)劃，它將采用其7nm Low Power Plus制程進(jìn)行制造。三星預(yù)計(jì)將成為第一家將業(yè)界多年來寄予厚望的EUV投入商業(yè)化生產(chǎn)的晶片制造商。臺(tái)積電和Globalfoundries宣布計(jì)畫于2019年開始使用EUV進(jìn)行商業(yè)化生產(chǎn)。
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