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gaa電晶體

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三星計劃2021年量產采用3nm制程節(jié)點的GAA電晶體

三星重申計畫在今年下半年開始使用EUV微影技術實現量產的計劃，它將采用其7nm Low Power Plus制程進行制造。三星預計將成為第一家將業(yè)界多年來寄予厚望的EUV投入商業(yè)化生產的晶片制造商。臺積電和Globalfoundries宣布計畫于2019年開始使用EUV進行商業(yè)化生產。

半導體
2018-05-30

3nm 三星 gaa電晶體

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