據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,三星電子新的基于極紫外光刻(EUV)技術(shù)的5nm芯片生產(chǎn)線,已經(jīng)開始建設(shè),投資高達(dá)81億美元,計(jì)劃在明年下半年投入運(yùn)營(yíng)。
在美國(guó)舉行的三星工藝論壇SFF 2018 USA之上,三星更是宣布將連續(xù)進(jìn)軍5nm、4nm、3nm工藝,直逼物理極限!
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