日前,中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)(CSTIC)在上海開(kāi)幕,為期19天,本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。 其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一
2020年6月22日,上?!猄EMICON China 2020將于6月27—29日在上海新國(guó)際博覽中心舉辦。
學(xué)習(xí)狀態(tài)監(jiān)控CbM系統(tǒng)設(shè)計(jì),完成測(cè)試
一天學(xué)會(huì)使用PADS進(jìn)行產(chǎn)品PCB設(shè)計(jì)-高效實(shí)用
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