本次復(fù)享光學(xué)承擔(dān)的項(xiàng)目,屬于“科學(xué)儀器研制開(kāi)發(fā)”專題項(xiàng)目。該項(xiàng)目基于共焦拉曼光譜,發(fā)展面向GAA-FET制程檢測(cè)的拉曼光譜技術(shù),探索在GAA-FET制備過(guò)程中多層納米薄膜的厚度、應(yīng)力、界面起伏、橫向刻蝕和溝道載流子遷移率等關(guān)鍵參數(shù)的量測(cè)技術(shù),形成一套具有重大產(chǎn)業(yè)應(yīng)用前景的專業(yè)高端拉曼光譜設(shè)備。