氮化鎵(GaN)是一種III-V族寬能隙化合物半導(dǎo)體材料,能隙為3.4 eV,電子遷移率為1,700 cm2/Vs,而硅的能隙和電子遷移率分別為1.1 eV和1,400 cm2/Vs。
此次收購(gòu)將大幅提高意法半導(dǎo)體在汽車、工業(yè)和消費(fèi)級(jí)高頻大功率GaN的技術(shù)積累、擴(kuò)大其開發(fā)計(jì)劃和業(yè)務(wù)
小軒窗
lll27
觀看華邦安全閃存技術(shù)研討會(huì),分享你的設(shè)計(jì)安全小“芯”思
朱老師教學(xué)之嵌入式linux C編程基礎(chǔ)
linux中的文件IO
何呈—手把手教你學(xué)ARM之LPC2148(下)
龍學(xué)飛Pads實(shí)戰(zhàn)項(xiàng)目視頻:基于平臺(tái)路由器產(chǎn)品的4層pcb設(shè)計(jì)
內(nèi)容不相關(guān) 內(nèi)容錯(cuò)誤 其它
本站介紹 | 申請(qǐng)友情鏈接 | 歡迎投稿 | 隱私聲明 | 廣告業(yè)務(wù) | 網(wǎng)站地圖 | 聯(lián)系我們 | 誠(chéng)聘英才
ICP許可證號(hào):京ICP證070360號(hào) 21ic電子網(wǎng) 2000- 版權(quán)所有 用戶舉報(bào)窗口( 郵箱:macysun@21ic.com )
京公網(wǎng)安備 11010802024343號(hào)