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國產(chǎn)5nm刻蝕機通過驗證，將用于臺積電5nm芯片制造
臺積電對外宣布，將在2019年第二季度進行5nm制程風險試產(chǎn)，預計2020年量產(chǎn)。與此同時，中微半導體也透露了一個重磅消息，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。
臺積電對外宣布，將在2019年第二季度進行5nm制程風險試產(chǎn)，預計2020年量產(chǎn)。與此同時，中微半導體也透露了一個重磅消息，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。
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