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Inpria與SK hynix聯(lián)合開發(fā)金屬氧化物抗蝕劑，降低新一代DRAM的制版復(fù)雜性
JSR株式會(huì)社(JSR Corporation)今天宣布加速與SK hynix Inc.的合作開發(fā)進(jìn)程，以便將JSR旗下公司Inpria的極紫外光刻(EUV)金屬氧化物抗蝕劑(MOR)應(yīng)用于制造先進(jìn)的DRAM芯片。Inpria擁有廣泛專利的EUV金屬氧化物光刻膠平臺(tái)使客戶能夠高效地對(duì)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)設(shè)備架構(gòu)進(jìn)行制版。
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