8月21日消息,據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML(阿斯麥)的EUV(極紫外光刻)技術(shù)培訓(xùn)中心昨日在臺(tái)灣臺(tái)南科學(xué)園區(qū)開(kāi)張,就近服務(wù)第一大客戶臺(tái)積電。 ASML ASML的EUV技術(shù)培訓(xùn)
盡管所花的時(shí)間與成本幾乎比所有人預(yù)期得要多,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)終于還是快要盼到極紫外光(extreme ultraviolet,EUV)微影技術(shù)的大量生產(chǎn)──在近日于美國(guó)舊金山舉行的2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展,微影設(shè)備大廠A