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三五族

我要報錯

  • 兩大武器助力摩爾定律回歸: EUV＋三五族

    摩爾定律能否持續(xù)走下去，主要關(guān)鍵在于微影技術(shù)難度愈來愈高。目前包括英特爾、臺積電、三星等大廠，主要采用多重曝光(multi-patterning)的浸潤式微影(immersionlithography)技術(shù)，但當(dāng)制程技術(shù)走到10奈米世代時，高密度的邏輯IC需要進行至少4次的曝光制程，制造成本自然大幅拉高。