通過(guò)建成芯片設(shè)計(jì)、封裝測(cè)試、應(yīng)用開(kāi)發(fā)在內(nèi)的集成電路全產(chǎn)業(yè)鏈，重慶正著手培育集成電路千億產(chǎn)值規(guī)模。8月14日，重慶日?qǐng)?bào)記者從市經(jīng)信委獲悉，截至去年底，全市集成電路產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)值約180億元，集聚規(guī)模以上企業(yè)9家。

集成電路全產(chǎn)業(yè)鏈已初步建成

重慶是國(guó)內(nèi)發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)最早的城市之一，我國(guó)第一塊大規(guī)模集成電路芯片，就出自位于永川的中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第24研究所。

“全市集成電路產(chǎn)業(yè)正在快速發(fā)展，目前已初步建成較完整的集成電路全產(chǎn)業(yè)鏈。”重慶市經(jīng)信委電子處負(fù)責(zé)人介紹，全市現(xiàn)有集成電路企業(yè)約20家，覆蓋了集成電路芯片設(shè)計(jì)、制造、封裝等全產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)。

其中，芯片設(shè)計(jì)企業(yè)包括西南集成、中科芯億達(dá)、偉特森電子、銳迪科、原璟科技、雅特力科技、弗瑞思科、烈達(dá)半導(dǎo)體、物奇科技、渝芯微等企業(yè)，主要涉及功率、射頻、通信、驅(qū)動(dòng)、物聯(lián)網(wǎng)、數(shù)據(jù)傳輸、微控制器等設(shè)計(jì)領(lǐng)域。

晶圓制造及整合元件制造商企業(yè)，包括中國(guó)電科集團(tuán)覆蓋模擬集成電路、電荷耦合元件的兩條6英寸芯片生產(chǎn)線，華潤(rùn)微電子公司8英寸功率及模擬芯片生產(chǎn)線，以及萬(wàn)國(guó)半導(dǎo)體公司12寸電源管理芯片生產(chǎn)線及封測(cè)線。

封裝測(cè)試及原材料供給方面，包括SK海力士公司在渝建設(shè)其全球最大封裝測(cè)試基地，平偉實(shí)業(yè)、嘉凌新科技等企業(yè)從事功率器件封裝測(cè)試;超硅公司生產(chǎn)大尺寸集成電路用硅片，奧特斯公司生產(chǎn)半導(dǎo)體封裝載板。

重慶市經(jīng)信委稱，以上述企業(yè)為基礎(chǔ)，重慶將逐步建成為國(guó)內(nèi)重要的功率半導(dǎo)體基地。

拓展與行業(yè)龍頭企業(yè)合作空間

圍繞集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)律，重慶提出將重點(diǎn)發(fā)展電源管理芯片、存儲(chǔ)芯片、先進(jìn)工藝生產(chǎn)線、汽車電子芯片、驅(qū)動(dòng)芯片、人工智能及物聯(lián)網(wǎng)芯片、集成電路設(shè)計(jì)業(yè)。

其中，重慶市將加強(qiáng)平臺(tái)建設(shè)，以集成電路設(shè)計(jì)為重點(diǎn)，做大晶圓制造規(guī)模，提升封裝測(cè)發(fā)展水平，完善原材料及配套體系，帶動(dòng)全產(chǎn)業(yè)鏈均衡發(fā)展。同時(shí)加大對(duì)集成電路相關(guān)知識(shí)產(chǎn)權(quán)、技術(shù)訣竅的研發(fā)、積累和引進(jìn)力度，推動(dòng)設(shè)計(jì)企業(yè)孵化和創(chuàng)新成果產(chǎn)業(yè)化，并大力引進(jìn)、培育集成電路核心人才團(tuán)隊(duì)，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)支撐。

重慶市經(jīng)信委表示，目前在集成電路資本、技術(shù)、項(xiàng)目等多個(gè)項(xiàng)目領(lǐng)域，重慶正在努力拓展與國(guó)內(nèi)行業(yè)龍頭企業(yè)合作空間，重點(diǎn)圍繞人工智能、智能硬件、智能傳感、汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等產(chǎn)品方向，加快引進(jìn)培育一批集成電路設(shè)計(jì)龍頭企業(yè)，形成集成電路設(shè)計(jì)產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)。

接下來(lái)，全市將重點(diǎn)推動(dòng)發(fā)展電源管理芯片及功率模組，支持化合物半導(dǎo)體等多品種、小批量特殊工藝線建設(shè)，引進(jìn)及合資合作建設(shè)一批大尺寸、窄線寬先進(jìn)工藝晶圓制造重大項(xiàng)目，盡快實(shí)現(xiàn)12寸芯片生產(chǎn)線本地量產(chǎn)。另外，全市還將持續(xù)發(fā)展高密度、高可靠性先進(jìn)封裝工藝，擴(kuò)大封裝測(cè)試產(chǎn)業(yè)規(guī)模，爭(zhēng)取在淀積、刻蝕、離子注入等核心工藝和動(dòng)力凈化專用裝備領(lǐng)域取得突破。