全新功率半導(dǎo)體技術(shù)助力數(shù)據(jù)中心節(jié)能
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世界各地計算機(jī)數(shù)量眾多,耗能量也相當(dāng)龐大,而支撐互聯(lián)網(wǎng)運(yùn)作的數(shù)據(jù)中心就是一大耗能實例。在一個典型的數(shù)據(jù)中心設(shè)施中,其實只有不到一半的功耗是用在計算功能上的。所以數(shù)據(jù)中心運(yùn)營商千方百計尋找機(jī)會來提高功率轉(zhuǎn)換效率和分配效率,例如通過高壓直流源的分配來減小轉(zhuǎn)換級的數(shù)目。
在美國,供電網(wǎng)把大約13 800Vac的交流電配送到各個社區(qū),最后利用變壓器(不對能耗產(chǎn)生顯著影響)將電壓降為480Vac。而每個數(shù)據(jù)中心幾乎都備有一個UPS(不間斷電源)??墒牵@個功率調(diào)節(jié)級的效率可能只有70%。在服務(wù)器機(jī)架上,208Vac的交流電壓被轉(zhuǎn)換為12或48Vdc的直流電壓,再降壓至處理器、硬盤驅(qū)動器和內(nèi)存所需的總線電壓。
圖1 一個典型數(shù)據(jù)中心的功率轉(zhuǎn)換級
以一個每板帶兩個處理器的滿裝服務(wù)器機(jī)架為例,假設(shè)轉(zhuǎn)換效率為90%,若功耗為5kW,則會浪費(fèi)500W的能量。高性能低壓MOSFET具有更低的導(dǎo)通阻抗和更低的開關(guān)損耗,能夠提高這些轉(zhuǎn)換級的效率。
上一代降壓轉(zhuǎn)換器采用肖特基二極管和60V額定電壓的功率MOSFET,效率為80%~85%;而現(xiàn)在使用的功率MOSFET產(chǎn)品,即使處理器輸入電壓下降,也能夠獲得90%以上的效率。
先進(jìn)的低壓功率MOSFET降低損耗
在20世紀(jì)90年代中期以前,因為傳導(dǎo)損耗(I2R)仍是總功耗的主要成分,低壓功率MOSFET的開發(fā)焦點一直放在RDS(ON)上。隨著開關(guān)頻率的上升,研究人員開始逐漸關(guān)注柵極電容和柵極電荷。圖2所示為功率MOSFET品質(zhì)因數(shù)(歸一化RSP和RSP·QGD)的變化趨勢。在過去14年間,這些參數(shù)減小了近10倍。
圖2 30V功率MOSFET的品質(zhì)因數(shù)的變化趨勢
業(yè)界已開發(fā)出數(shù)種能夠減小導(dǎo)通阻抗和柵極電荷的新技術(shù),其中一種技術(shù)就是在柵極溝槽底部采用一層加厚的氧化層(見圖3)。這種方案不僅有助于降低柵漏電容(CGD),還能增大漂移區(qū)的阻抗。它也有利于降低導(dǎo)通阻抗和柵極電荷,因為現(xiàn)在可以一方面通過薄柵極氧化層來獲得更低的Vth(閾值電壓)以及更低的導(dǎo)通阻抗,同時又可以在溝槽底部采用加厚氧化層以獲得最低的CGD。
圖3 底部帶加厚氧化層的功率MOSFET器件橫截面圖
[!--empirenews.page--]還有一種技術(shù)就是采用電荷平衡或超級結(jié)器件結(jié)構(gòu)。它最初是針對高壓器件開發(fā)的,現(xiàn)在也可用于低壓器件。利用電荷平衡方案,可以在漂移區(qū)獲得兩維電荷耦合,因而能夠在漂移區(qū)采用更高的摻雜濃度,最終降低漂移阻抗。飛兆半導(dǎo)體通過采用第四個電極、屏蔽以及加厚氧化層,實現(xiàn)了這種概念,如圖4所示。
圖4 帶屏蔽電極的功率MOSFET器件橫截面圖
其他參數(shù)現(xiàn)在也變得更具相關(guān)性,例如,體二極管反向恢復(fù)、內(nèi)部柵極阻抗以及MOSFET的輸出電荷(QOSS)。低壓MOSFET產(chǎn)品現(xiàn)在開始針對二極管反向恢復(fù)以及輸出電容的最小化而優(yōu)化。在開關(guān)頻率和輸出電流較高時,這些損耗元件的重要性便更為明顯。
封裝阻抗、電感及其熱特性也對功耗有著重大影響,隨著目前器件尺寸越來越小,以及組合封裝解決方案在應(yīng)用中開始逐漸流行,這一點便尤其顯著。
在DC/DC轉(zhuǎn)換器應(yīng)用中,重負(fù)載條件下,因傳導(dǎo)損耗,效率主要由導(dǎo)通阻抗決定;而在輕負(fù)載條件下,控制效率的主要因素是柵極電荷、反向恢復(fù)電荷和輸出電容。圖5顯示了不同輸出負(fù)載條件下,各個元件的相對功耗。
圖5 DC/DC轉(zhuǎn)換器中各個元件的相對功耗
最近幾年來,功率轉(zhuǎn)換半導(dǎo)體解決方案的開發(fā)速度大大加快。2010年推出的器件的效率增益,特別是輕載條件下的效率增益,預(yù)計將有大幅度提高(如圖6所示)。
圖6 兩代功率MOSFET技術(shù)之間的效率比較
先進(jìn)的高壓器件降低AC/DC級的功耗
帶PFC的開關(guān)模式電源通常運(yùn)用在數(shù)據(jù)中心,而現(xiàn)在也常見于電信電源和白色家電,以執(zhí)行第一級功率轉(zhuǎn)換。功率因數(shù)校正電路歷來都是采用整合了功率開關(guān)(MOSFET或IGBT)和升壓二極管的升壓轉(zhuǎn)換器拓?fù)?。不過,由于引入了軟恢復(fù)二極管(如飛兆半導(dǎo)體的Hyperfast Stealth),可以去掉或簡化緩沖電路,升壓轉(zhuǎn)換器可采用硬開關(guān)模式來實現(xiàn)。通過Stealth二極管或SiC肖特基二極管與SupreMOS等新超級結(jié)技術(shù)的結(jié)合,設(shè)計人員能夠獲得更低的傳導(dǎo)損耗和開關(guān)損耗,并簡化柵極驅(qū)動,減少EMI。
利用PFC不僅可以確保器件符合EN61000-3-2等規(guī)范標(biāo)準(zhǔn),減少元件上的應(yīng)力,從而減少諧波成分,增強(qiáng)可靠性;還能夠通過增大電源的最大功率來提高轉(zhuǎn)換效率。
AC/DC級的大多數(shù)大功率有源PFC設(shè)計都整合了一個連續(xù)電流模式(CCM)升壓轉(zhuǎn)換器拓?fù)?,因為這種結(jié)構(gòu)十分簡單,并且具有很寬的AC輸入電壓范圍。另一種PFC工作模式,臨界導(dǎo)通模式(BCM),則用于低功率級。CCM升壓轉(zhuǎn)換器(如圖1所示)會采用硬開關(guān)模式控制升壓二極管和開關(guān)器件,但是硬開關(guān)的缺點是二極管的反向恢復(fù)特性會增加開關(guān)器件的導(dǎo)通損耗,并產(chǎn)生EMI。
二極管的反向恢復(fù)特性決定了它如何從正向傳導(dǎo)狀態(tài)轉(zhuǎn)換到反向電壓阻斷狀態(tài)。如果反向恢復(fù)電流過于突然地從IRRM(最大反向恢復(fù)電流)返回到零,就會產(chǎn)生電壓尖刺和嚴(yán)重的EMI。電路設(shè)計人員會通過降低開關(guān)的導(dǎo)通di/dt,或者增加緩沖電路(snubber circuit)來減輕這種效應(yīng)。在使用以前的二極管技術(shù)的年代,設(shè)計人員只能采用一個軟二極管或快速恢復(fù)二極管。不過,以往軟二極管技術(shù)的IRRM值很大,在二極管trr(反向恢復(fù)時間)期間會產(chǎn)生很大的導(dǎo)通損耗;同時,降低開關(guān)導(dǎo)通速度也會增加開關(guān)導(dǎo)通損耗。而增添緩沖電路又會增加成本和復(fù)雜性,并降低可靠性。除此之外,因為基本RC方案中緩沖電阻的功耗很大,使緩沖電路還常常涉及復(fù)雜的能量恢復(fù)方案。為解決這個問題,可采用一個Stealth II二極管來減小導(dǎo)通損耗。MOSFET超級結(jié)技術(shù)能夠極大地降低導(dǎo)通阻抗RDS(ON),從而降低傳導(dǎo)損耗;而且超級結(jié)器件的速度非???,可大大降低關(guān)斷損耗。只要采用像SupreMOS和Stealth-II二極管這樣的新技術(shù),就能夠使軟開關(guān)PFC實現(xiàn)最大效率。